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光刻機是芯片制造環節的一種關鍵設備 ， 在芯片的工藝制程上 ， 也主要是由光刻機來決定的 。
根據芯片制造環節的不同 ， 可以分為前道光刻機和后道光刻機 ， ASML的優勢在于前道光刻機 ， 而我國上海微電子的優勢 ， 則是后道光刻機 。
其中決定芯片制程的就是前道光刻機 ， 所以由于ASML使用了部分老美的技術 ， 因此EUV光刻機就受到修改芯片規則的制約 ， 無法出貨大陸中企 。
不過根據最新的消息顯示 ， 老美方面計劃將DUV光刻機也納入范圍當中 。
此前在EUV光刻機上 ， ASML的態度比較緩和 ， 但這次直接表示了拒絕 ， 可以說ASML不再遮掩 。
ASML之所以會在態度上出現這樣的巨大反差 ， 出于兩個方面的因素 ， 分為外部因素和內部因素 。
在內部因素上 ， 之所以EUV光刻機 ， ASML遵從了修改后的芯片規則 ， 是因為EUV光刻機的關鍵零部件需要美的技術 ， 甚至這些零部件就來自美本土 。
但是在DUV光刻機上則不然 ， 換句話說 ， ASML在DUV光刻機上實現了全球領先 ， 與美可以說沒有直接的聯系 。
而且DUV光刻機的關鍵部件 ， 如雙工件臺、浸沒系統等 ， 主要技術來自ASML自己 ， 所以說ASML在DUV光刻機上擁有著說話的底氣 。
當然 ， 內部因素其實還不是最主要的 ， 主要還是來自外部因素 。
所謂的外部因素 ， 就是DUV光刻機畢竟是一項已經成熟的產品 ， 從本質上說 ， DUV光刻機沒有技術上難以逾越的鴻溝 。
換句話說 ， 只要假以時日 ， 愿意投入資金去研發 ， 是都可以研發出來的 。
例如我們國產光刻機 ， 早就已經實現了DUV光刻機的量產 。
EUV光刻機與DUV光刻機的關鍵不同 ， 是光源的不同 ， EUV光刻機的光源波長更短 ， 制造難度很大 。
而DUV光刻機的光源 ， 我們很早就已經實現了突破 ， 國產替代完全沒有問題 。
所以ASML才說 ， DUV光刻機已經是一項成熟的技術 ， 言下之意 ， 如果我不賣 ， 那我很快就會被替代 。
事實上 ， 我們國產DUV光刻機的高端部分 ， 近年來 ， 各個主要零部件 ， 已經紛紛進入中試階段 ， 距離量產已經是一步之遙 。
所以對于ASML來說 ， 讓DUV光刻機也去適配修改后的芯片規則 ， 沒有任何意義 ， 只會是讓ASML丟失大量的市場和營收 。
要知道 ， 目前我們不僅是全球最大的芯片市場 ， 也是全球最大的半導體設備市場 ， 而ASML在老美的營收已經連續三年下滑 。
在今年上半年 ， 我們大陸中企為ASML帶來的營收貢獻 ， 直接占據了份額第一 。
所以從這個外部因素來說 ， ASML是難以接受DUV光刻機的新規則的 。
中國院士倪光南就說過 ， 要發展核心科技 ， 因為核心技術是買不來、求不來、換不來的 ， 確實如此 。
當然 ， 我們依然堅持開放的態度 ， 因為這樣才能刺激競爭 。
就像之前華為海思可以研發自己所需要的芯片 ， 但是依然會外購芯片 ， 就是刺激海思不斷進取 。
但如果無法獲得外部供給 ， 我們也能做到自給自足 。
【光刻機|光刻機風云再起，ASML不再遮掩，中國院士說對了】
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