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榮耀|這個中國人幫荷蘭壟斷光刻機卻坑了自己人，一年賺走中國六百億

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作為芯片制造中光刻環節的核心設備 ， 高端光刻機可謂全球高精尖技術的典型代表 ， 但因為美國 ， 中企有錢也買不到 ， 中芯國際砸下77億元巨資 ， 從荷蘭光刻機巨頭ASML手上購買的DUV光刻機 ， 遠不如EUV光刻機先進 ， 卻仍被美國議員要求升級制裁 。
中國芯片制造遭遇“卡脖子”困境 ， 影響深遠 。
少有人知的是 ， 幫助ASML擊敗日本成為光刻機霸主的 ， 竟然是一個中國人 ， 他就是臺積電的一位工程師林本堅 。

不過 ， 在林本堅正式“登場”之前 ， 是美國、日本主導著光刻機的全部話語權 。
【榮耀|這個中國人幫荷蘭壟斷光刻機卻坑了自己人，一年賺走中國六百億】上世紀六十年代初 ， 美國仙童半導體發明了至今仍在使用的掩膜版曝光刻蝕技術 ， 同時IBM選擇仙童半導體的光刻工藝和產線來制造計算機 ， 生產出具有劃時代意義的大型電腦 ， 進而推動美國、日本等廠商的光刻技術和集成電路產業發展 。
1963年 ， 日本電氣公司NEC從美國仙童半導體獲得相關技術授權 ， 日本政府要求其將取得的技術和國內其它廠商分享 。 如此一來 ， 日本三菱、京都電氣、尼康等公司爭先恐后進入半導體產業 ， 拉開了日本半導體行業狂飆突進的序幕 。

到80年代 ， 日本尼康公司已經和推出真正有現代意義的步進式光刻機GCA平起平坐 ， 各自拿下三成市場占有率 。 這個時候 ， ASML才剛剛成立 。
1986年 ， 半導體市場遭遇大滑坡 ， 美國光刻機企業深受沖擊 ， 要么破產 ， 要么被收購 。
為了防止日企掌控全球市場 ， 出于國家安全和商業利益考慮 ， 美國開始組建“復仇者聯盟” ， 扶持其他光刻機企業 ， 其中 ， 荷蘭ASML被視為“最優選項” 。
有了美國的扶持 ， ASML快速崛起 ， 但如何提升光刻機的工藝制程水平 ， 是一項事關企業興衰的長期考驗 。

在很長一段時間里 ， 要提升光刻機工藝制程 ， 主要靠改進所使用的光源來降低光的波長 ， 比如00年代開始使用193nm波長的DUV激光 ， 但怎么超越193nm ， 各大巨頭提出多種方案 ， 也聚焦了不少“火力” ， 卻紛紛敗下陣來 。
光刻機霸主日本尼康一度打算選用未來技術 ， 即0.004nm ， 然而 ， 這個技術太超前 ， 難度太大 。
關鍵時刻 ， 林本堅“登場” 。 他在IBM負責不斷提高成像技術 ， 干了22年 ， 2000年正式加入已經入股ASML的臺積電 。

和其他專家一心尋找新的光源替代193nm DUV激光不同 ， 林本堅在IBM時就提出浸潤式光刻技術 ， 因當時干式光刻技術是主流 ， 這個“瘋狂的點子”不但沒被采納 ， 他還受到了同事的排擠 。
到了臺積電 ， 林本堅主攻浸潤式研究 ， 創造性地用水替代空氣 ， 以縮短波長 。
最關鍵的是 ， 這個方案成功被ASML采納 ， 一年時間內 ， 便開發出樣機 。 隨后 ， 臺積電成為第一家實現浸潤式產品量產的公司 ， 一舉成為芯片制造領域的“王者” 。

緊接著 ， 日本尼康推出的157nm產品樣機完成 ， 卻沒有廠商愿意采用 ， 導致一大批使用尼康產品的日本半導體廠商迅速潰敗 。
依托于關鍵技術的重大突破 ， ASML市場份額飆升 ， 被媒體形容為“把尼康和佳能打得滿地找牙” ， 此后又研發出EUV光刻機技術 ， 地位進一步夯實 。

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