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光刻機(jī)|EUV光刻機(jī)關(guān)鍵技術(shù),迎來突破后,終于明白ASML為何“變臉”了!

光刻機(jī)|EUV光刻機(jī)關(guān)鍵技術(shù),迎來突破后,終于明白ASML為何“變臉”了!

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造EUV光刻機(jī)到底有多艱難呢?像ASML工程師說的一樣:就算是將光刻機(jī)的圖紙給了中國 , 那么中國也是造不出來的 。

而發(fā)展到現(xiàn)在 , ASML雖說也再次提及類似這樣的言論 , 但是也有突然的“變臉” 。 就在前段時間 , ASML表態(tài):中國是不太可能獨立的復(fù)制出尖端的光刻機(jī)技術(shù) 。 本以為 , 現(xiàn)在的ASML跟以前一樣有莫大的底氣 。 但事實上 , 在說出了這一番話之后 , ASML又改口給自己留了一絲余地 。 聲稱 , 也不是完全沒有可能 , 因為中國的科學(xué)家是會不斷去嘗試的 。

當(dāng)時 , 小編還不明白ASML為何突然就“變臉” , 對中國尖端光刻機(jī)的研發(fā)一邊潑冷水 , 一邊又給了一些“信心” 。 但是當(dāng)EUV光刻機(jī)關(guān)鍵技術(shù) , 被宣布突破之后 , 小編終于明白了ASML改變態(tài)度的原因 。
近日 , 《半導(dǎo)體學(xué)報》發(fā)布了2021年度中國半導(dǎo)體十大研究進(jìn)展報告 。 據(jù)報告中的信息顯示:北京大學(xué)電子顯微鏡實驗室高鵬研究員研究組 , 已經(jīng)成功的掌握了掃描透射電子顯微鏡技術(shù) 。 而且還不僅是如此 , 此項技術(shù)突破了傳統(tǒng)的局限 , 實現(xiàn)了精度更高的EUV光鏡制程技術(shù) 。 這意味著 , EUV光刻機(jī)的關(guān)鍵技術(shù)再次宣布了突破 。

幸運的是 , 在EUV光刻機(jī)的物鏡、光源、雙件工作臺這三項關(guān)鍵的核心技術(shù)上 , 我們中國的科研機(jī)構(gòu)以及半導(dǎo)體企業(yè)等都在陸陸續(xù)續(xù)的完成了突破 。 那么現(xiàn)在這種局面對于我們來說無疑是一個不錯的消息 。 畢竟 , 當(dāng)科研成果進(jìn)一步商業(yè)化的時候 , 我們距離造出EUV光刻機(jī)的進(jìn)程也就更短了 , 屆時打破ASML在EUV光刻機(jī)市場上的壟斷地位也指日可待 。 這也難怪ASML會變臉 。

而個人也認(rèn)為 , 這一項關(guān)鍵技術(shù)的突破也關(guān)乎于華為、中芯的“命運” 。
且看華為現(xiàn)在的麒麟芯片所遭遇的困境 , 其實破解的方法就是需要我們有自主研發(fā)的EUV光刻機(jī) 。 一旦EUV光刻機(jī)被研發(fā)出來 , 那么華為的麒麟芯片就可以重見天日 , 那么對于華為手機(jī)業(yè)務(wù)的命運來說可是一大幸事 。

而中芯 , 雖說代工實力正在不斷的增強(qiáng) , 但是就EUV光刻機(jī)上這一點也是中芯暫時無法更快推進(jìn)先進(jìn)工藝制程的短板 , 導(dǎo)致和臺積電以及三星的代工實力還有差距 。 但若是EUV光刻機(jī)被徹底突破 , 中芯獲得了EUV光刻機(jī) , 加之梁孟松等一眾科技人員的努力 , 那么中芯在全球的芯片代工市場上實力或?qū)⒋笤?。 未來那個時候的中芯 , 跟現(xiàn)在的局面多半都不同 。

因此 , 個人才覺得當(dāng)下這一項關(guān)鍵的技術(shù)被突破也是關(guān)乎到了中芯以及華為 , 或者說更多在這方面被限制企業(yè)的命運 。 總而言之 , 我們也終于是等到了這一天 , 看到了在EUV光刻機(jī)上更大的希望 。 相信 , 在更多科技人才努力之下 , 屬于中國制造的EUV光刻機(jī)也能很快的面世 。
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